ASML: Trung Quốc tụt hậu 15 năm so với Mỹ trong công nghệ bán dẫn

Buzz

Chính phủ Hà Lan đã thực hiện lệnh cấm mới để tuân theo yêu cầu của Mỹ. Theo quy định mới, ASML sẽ cần giấy phép xuất khẩu đặc biệt để bán các máy quang khắc chip bán dẫn dựa trên công nghệ DUV cũ.

Theo các tài liệu gần đây từ Bộ Công nghiệp và Công nghệ Thông tin Trung Quốc, quốc gia này đã tự sản xuất được các máy quang khắc ánh sáng tia cực tím bước sóng DUV. Những tài liệu này đã dẫn đến nhận định của ASML rằng Trung Quốc hiện đang lạc hậu khoảng 15 năm so với Mỹ về công nghệ gia công bán dẫn.

Tại thị trường Trung Quốc, các máy quang khắc bán dẫn đã trở thành hàng hóa được săn lùng, vì hiện tại chỉ có ASML là nhà sản xuất duy nhất cung cấp các sản phẩm mới nhất và tiên tiến nhất. Việc sản xuất máy quang khắc DUV trong nước có thể giảm sự phụ thuộc vào ASML, đồng thời hỗ trợ mục tiêu tự chủ công nghệ bán dẫn, đặc biệt quan trọng khi các mô hình trí tuệ nhân tạo mới cần những con chip hiệu suất cao.

Tài liệu mới từ chính phủ Trung Quốc chỉ ra ba yếu tố quan trọng trong các máy quang khắc DUV nội địa: độ phân giải của chùm tia cực tím, dải sóng và kích thước overlay. Những máy này ứng dụng công nghệ Argon Fluoride, đã có mặt trong ngành gia công bán dẫn khoảng 20 năm.

Chùm tia cực tím với bước sóng 193 nano mét có khả năng quang khắc các chip với kích thước 65 nano mét. Để so sánh, máy quang khắc DUV Argon Fluoride của ASML đã thực hiện điều này từ năm 2009. Cỗ máy quang khắc mới của Trung Quốc cạnh tranh trực tiếp với TWINSCAN XT:1460K của ASML, cũng sử dụng tia cực tím 193 nano mét Argon Fluoride và quang khắc dưới 65 nano mét. Tuy nhiên, máy của ASML vượt trội hơn với kích thước overlay chỉ dưới 2,5 nano mét, so với kích thước overlay 8 nano mét của máy Trung Quốc.

Trong ngành công nghiệp bán dẫn, resolution được hiểu là khả năng của máy quang khắc khi in các chi tiết mạch tích hợp siêu nhỏ lên bề mặt wafer silicon. Kích thước resolution này phụ thuộc vào nhiều yếu tố, trong đó khẩu độ của lăng kính, khả năng tập trung của chùm tia DUV, và kích thước tấm mask là những yếu tố quan trọng nhất.

Khẩu độ lăng kính càng lớn, máy quang khắc càng có khả năng in những transistor nhỏ hơn, từ đó thu nhỏ được quy trình sản xuất bán dẫn. Kích thước overlay, mô tả khả năng quang khắc các cấu trúc bán dẫn siêu nhỏ lên wafer, cũng rất quan trọng. Kích thước overlay càng nhỏ, thì các mạch và transistor có thể được bố trí dày đặc hơn trên chip bán dẫn.

Theo WCCFTech

Các câu hỏi thường gặp

Lệnh cấm mới của chính phủ Hà Lan ảnh hưởng như thế nào đến ASML trong ngành công nghiệp bán dẫn?

Lệnh cấm mới yêu cầu ASML phải có giấy phép xuất khẩu đặc biệt để bán máy quang khắc chip DUV, ảnh hưởng đến khả năng cung cấp công nghệ cho thị trường Trung Quốc.

Trung Quốc đã có những tiến bộ gì trong việc sản xuất máy quang khắc DUV?

Trung Quốc đã tự sản xuất máy quang khắc ánh sáng tia cực tím DUV, cho thấy sự phát triển đáng kể trong công nghệ gia công bán dẫn, mặc dù còn lạc hậu so với Mỹ khoảng 15 năm.

Các yếu tố nào quyết định đến hiệu suất của máy quang khắc DUV trong sản xuất chip bán dẫn?

Ba yếu tố chính là độ phân giải của chùm tia cực tím, dải sóng và kích thước overlay, tất cả đều ảnh hưởng đến khả năng in các chi tiết mạch tích hợp lên silicon.

So sánh kích thước overlay của máy quang khắc ASML và máy Trung Quốc như thế nào?

Máy quang khắc DUV của ASML có kích thước overlay dưới 2,5 nano mét, trong khi máy Trung Quốc có kích thước overlay là 8 nano mét, cho thấy ASML vẫn dẫn đầu về độ chính xác.

Nội dung từ Mytour nhằm chăm sóc khách hàng và khuyến khích du lịch, chúng tôi không chịu trách nhiệm và không áp dụng cho mục đích khác.

Nếu bài viết sai sót hoặc không phù hợp, vui lòng liên hệ qua email: [email protected]