Canon giới thiệu máy khắc chip nano, cạnh tranh trực tiếp với ASML trong lĩnh vực bán dẫn
Đọc tóm tắt
- - Canon giới thiệu máy FPA-1200NZ2C, hệ thống khắc nanoimprint mới.
- - Máy có khả năng tạo ra wafer silicon chứa chip bán dẫn với tiến trình gia công mới.
- - Không cần sử dụng cơ chế quang học như máy khắc truyền thống.
- - Máy có khả năng gia công chip xử lý với độ mịn tối thiểu là 14nm.
- - Hệ thống quản lý môi trường bên trong giúp tăng tỷ lệ chip đạt chuẩn.
- - Canon hy vọng máy có thể khắc wafer silicon với độ mịn tối thiểu là 10nm.
- - Công nghệ nanoimprint đã tồn tại hơn 20 năm, Canon đã phát triển công nghệ này trong gần 20 năm.
Trong khi mọi người vẫn tập trung vào việc thảo luận về các thiết bị công nghệ mới, một động thái từ phía Nhật Bản có thể thay đổi hoàn toàn thị trường bán dẫn, ngành công nghiệp tạo ra chính những thiết bị các anh chị em sử dụng hàng ngày.Canon vừa giới thiệu máy có tên là FPA-1200NZ2C, một hệ thống khắc nanoimprint, với khả năng tạo ra những wafer silicon chứa chip bán dẫn và linh kiện bán dẫn áp dụng tiến trình gia công mới nhất. Với việc áp dụng công nghệ nanoimprint, khả năng của cỗ máy mà Canon vừa giới thiệu không hề thua kém những giải pháp tương tự từ các tập đoàn khác, ASML là một ví dụ điển hình, tuy nhiên, tiêu thụ điện năng của cỗ máy do người Nhật sản xuất lại thấp hơn nhiều.
Khác biệt giữa nanoimprint và quang khắc thạch bản truyền thống là gì? Máy gia công chip bán dẫn của Canon không cần sử dụng cơ chế quang học để chuyển thiết kế mạch bán dẫn lên tấm wafer silicon đã qua xử lý hóa chất. Thay vào đó, máy khắc nanoimprint của Canon chỉ cần thực hiện một bước dập lớp mask với thiết kế và bố cục transistor cũng như mạch bán dẫn lên tấm wafer.Canon FPA-1200NZ2C hiện có khả năng gia công chip xử lý với độ mịn tối thiểu là 14nm, tương đương với tiến trình gia công bán dẫn 5nm hiện nay, đủ để tạo ra những chip xử lý cao cấp. Canon hy vọng rằng hệ thống này có thể khắc được wafer silicon với độ mịn tối thiểu là 10nm, tiêu chuẩn của tiến trình gia công bán dẫn 2nm.Để giảm thiểu tình trạng tạp chất rơi vào transistor siêu nhỏ trên bề mặt wafer, máy có hệ thống quản lý môi trường bên trong. Với việc không cần sử dụng hệ thống quang học như các máy EUV hay DUV đắt tiền của ASML để thực hiện quá trình khắc thạch bản wafer silicon làm chip bán dẫn, tiêu thụ điện năng của máy gia công bán dẫn Canon giới thiệu thấp hơn rất nhiều.
Hệ thống quản lý môi trường bên trong máy khắc của Canon giúp tăng tỷ lệ chip đạt chuẩn, đáp ứng nhu cầu sản xuất chip bán dẫn chất lượng cao. Theo tập đoàn Nhật Bản, cỗ máy này có thể sản xuất nhiều sản phẩm đa dạng, từ lăng kính metalens cho công nghệ thực tế ảo đến chip bán dẫn phục vụ cho nhiều ngành công nghiệp.
Công nghệ nanoimprint đã tồn tại hơn 20 năm, nhưng ít được chú ý do chất lượng sản phẩm ban đầu thấp hơn so với công nghệ truyền thống. Canon đã dành gần 20 năm để phát triển công nghệ khắc bán dẫn nano, mong muốn tạo ra giải pháp sản xuất chip bán dẫn hiệu quả và chi phí thấp hơn.
Theo Techspot
Nội dung được phát triển bởi đội ngũ Mytour với mục đích chăm sóc khách hàng và chỉ dành cho khích lệ tinh thần trải nghiệm du lịch, chúng tôi không chịu trách nhiệm và không đưa ra lời khuyên cho mục đích khác.
Nếu bạn thấy bài viết này không phù hợp hoặc sai sót xin vui lòng liên hệ với chúng tôi qua email [email protected]
Các câu hỏi thường gặp
1.
Máy khắc nanoimprint Canon FPA-1200NZ2C có gì đặc biệt so với các công nghệ khắc bán dẫn truyền thống?
Máy khắc nanoimprint Canon FPA-1200NZ2C không sử dụng cơ chế quang học như công nghệ quang khắc thạch bản truyền thống, thay vào đó sử dụng dập lớp mask trực tiếp lên wafer silicon, giúp tiết kiệm năng lượng và chi phí hơn.
2.
Canon FPA-1200NZ2C có thể gia công chip bán dẫn với độ mịn tối thiểu bao nhiêu?
Máy khắc nanoimprint Canon FPA-1200NZ2C có khả năng gia công chip bán dẫn với độ mịn tối thiểu 14nm, tương đương với tiến trình gia công bán dẫn 5nm hiện nay.
3.
Máy khắc nanoimprint Canon có tiết kiệm điện năng không so với các máy khắc bán dẫn khác?
Có, máy khắc nanoimprint Canon FPA-1200NZ2C tiêu thụ ít điện năng hơn nhiều so với các máy khắc thạch bản EUV hay DUV đắt tiền của ASML, nhờ không sử dụng hệ thống quang học phức tạp.
4.
Canon đã đầu tư bao nhiêu thời gian để phát triển công nghệ khắc nanoimprint?
Canon đã dành gần 20 năm để nghiên cứu và phát triển công nghệ khắc nanoimprint, với mục tiêu tạo ra giải pháp gia công chip bán dẫn hiệu quả và chi phí thấp hơn các công nghệ truyền thống.