Intel mở ra một kỷ nguyên mới trong việc sản xuất chip với công nghệ High NA EUV

Intel đứng đầu ngành khi áp dụng công nghệ High NA EUV vào sản xuất chip, khẳng định vị thế dẫn đầu về quy trình sản xuất với thế hệ mới hơn, bao gồm cả Intel 18A.

Ngày 19 tháng 4 năm 2024 – Intel Foundry đánh dấu bước ngoặt quan trọng trong lịch sử sản xuất bán dẫn với việc hoàn thiện máy quang khắc siêu cực tím (EUV) sử dụng công nghệ High NA tại nhà máy Hillsboro, Oregon của Intel.

Phát triển bởi ASML, nhà sản xuất thiết bị quang khắc hàng đầu thế giới, hệ thống TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV của Intel đang được hiệu chuẩn để chuẩn bị cho quá trình sản xuất sắp tới.

Điểm nổi bật của hệ thống là khả năng nâng cao độ phân giải và thu nhỏ chi tiết trên các vi mạch tiếp theo trên tấm bán dẫn silicon (wafer) nhờ thiết kế quang học tiên tiến, mở ra thế hệ vi xử lý mới mạnh mẽ hơn.

“Với việc áp dụng công nghệ High NA EUV, Intel sở hữu hệ thống quang khắc toàn diện nhất trong ngành, giúp chúng tôi phát triển các tiến trình tương lai vượt trội hơn cả Intel 18A trong nửa sau của thập kỷ này.”

Ông Mark Phillips, Chuyên gia của Intel và Giám đốc Mảng Quang khắc, Phần cứng và Giải pháp tại Intel Foundry Logic Technology Development. 

Vai trò then chốt của công nghệ High NA EUV

Công nghệ High NA EUV sẽ đóng vai trò quan trọng trong phát triển chip tiên tiến và sản xuất vi xử lý thế hệ mới. Là đơn vị tiên phong trong việc áp dụng công nghệ High NA EUV, Intel Foundry sẽ có khả năng sản xuất chip với độ chính xác và quy mô chưa từng có. Nhờ đó, Intel có thể phát triển những sản phẩm đột phá về tính năng và khả năng để thúc đẩy tiến bộ trong lĩnh vực Trí tuệ Nhân tạo (AI) và các công nghệ mới khác.

Gần đây, ASML đã công bố thành công về việc sử dụng phương pháp quang khắc để tạo ra các đường mạch chỉ dày 10 nm đầu tiên tại phòng thí nghiệm High NA tại trụ sở chính ở Veldhoven, Hà Lan. Đây là các đường mạch tối ưu nhất được in ra từ trước đến nay, thiết lập kỉ lục thế giới về độ phân giải tạo ra từ hệ thống quét quang khắc siêu cực tím (EUV lithography scanner).

Thành công của thử nghiệm này là bằng chứng rõ ràng cho sự đột phá về thiết kế ống kính quang học trong máy quét High NA EUV từ đối tác của ASML, Zeiss.

Những hình ảnh ấn tượng được in ra sau khi bộ phận quang học, cảm biến và bệ đỡ của hệ thống hoàn thành vòng hiệu chuẩn ban đầu. Đây là bước đệm quan trọng để hệ thống hoạt động với công suất tối đa.

Khả năng in các đường mạch chỉ dày 10 nm của ASML với hệ thống quang khắc toàn trường (full field) có thể coi là bước ngoặt quan trọng trong việc đưa công nghệ High NA EUV vào hoạt động thương mại.

Tối ưu chi phí và hiệu năng với công nghệ tiên tiến mới

Bằng cách kết hợp với các tiến trình tiên tiến khác của Intel Foundry, công nghệ High NA EUV có khả năng in ra các chi tiết với kích thước nhỏ hơn 1,7 lần so với các công cụ EUV hiện tại.

Điều này giúp thu nhỏ các chi tiết 2D, nâng cao mật độ bán dẫn lên gấp 2,9 lần. Nhờ đó, Intel tiếp tục dẫn đầu trong việc phát triển các vi mạch có kích thước nhỏ hơn, mật độ cao hơn, đóng góp vào sự tiến bộ của Định luật Moore trong lĩnh vực sản xuất bán dẫn.

So với công nghệ 0.33NA EUV, công nghệ High NA EUV (hoặc 0.55NA EUV) mang lại độ tương phản hình ảnh cao hơn trên cùng chi tiết. Điều này giúp sử dụng ít ánh sáng hơn trong mỗi lần phơi sáng để giảm thời gian cần thiết cho quá trình in ấn và tăng năng suất sản xuất tấm bán dẫn.

Intel dự kiến áp dụng đồng thời cả hai hệ thống 0.33NA EUV và 0.55NA EUV cùng các công nghệ quang khắc khác trong quá trình phát triển và sản xuất các sản phẩm chip tiên tiến hơn, bắt đầu với việc thử nghiệm trên tiến trình Intel 18A vào năm 2025 và tiếp tục được áp dụng vào sản xuất tiến trình Intel 14A. Qua đó, Intel nhằm tối ưu hóa chi phí và hiệu năng cho công nghệ sản xuất tiên tiến của mình.

Sứ mệnh tiên phong của Intel

Trong nhiều thập kỷ qua, Intel đã hợp tác chặt chẽ với ASML để thúc đẩy sự phát triển của công nghệ quang khắc, từ quang khắc nhúng 193nm đến EUV và nay là High NA EUV.

Thành quả của sự hợp tác này là hệ thống quang khắc siêu cực tím TWINSCAN EXE:5000 - một trong những công cụ sản xuất chip tiên tiến nhất hiện nay. Việc áp dụng công nghệ quang khắc High NA EUV đưa Intel trở thành đầu tàu trong việc triển khai Định luật Moore, đưa công ty bước vào Kỷ nguyên Angstrom.

Hệ thống TWINSCAN EXE:5000 đã được vận chuyển đến Oregon trong hơn 250 thùng chứa, được đặt trong 43 container. Sau nhiều chuyến bay đến Seattle, các container được 20 xe tải vận chuyển đến Oregon. Tổng trọng lượng của mỗi hệ thống lên tới hơn 150 tấn.

Intel đã công bố kế hoạch áp dụng công nghệ High NA EUV vào năm 2021. Đến năm 2022, Intel và ASML tiếp tục hợp tác để thúc đẩy phát triển công nghệ tiên tiến này. Theo kế hoạch, Intel sẽ trang bị hệ thống TWINSCAN EXE:5200B thế hệ mới với năng suất hơn 200 tấm bán dẫn mỗi giờ, khẳng định vị thế dẫn đầu của Intel trong ngành.

Bạn có ấn tượng với thành tựu mà Intel đã đạt được?

Nếu bạn quan tâm đến việc sử dụng CPU Intel thế hệ mới, Mytour có nhiều mẫu laptop trang bị CPU Intel thế hệ 13, với giá ưu đãi và khuyến mãi hấp dẫn!

LAPTOP SỬ DỤNG CPU INTEL THẾ HỆ 13 VỚI GIÁ CẢ HẤP DẪN

Xem thêm: 

• Honor giới thiệu MagicBook Pro 16 phiên bản mới: Trang bị Intel Core Ultra và card đồ họa RTX 4060
• Huawei MateBook X Pro 2024 và FreeBuds Lipstick 2 chính thức ra mắt