Buzz
Dự án được dẫn dắt bởi nhà khoa học Nikolay Chkhalo, nhằm phát triển các máy quang khắc có năng suất thấp hơn nhưng chi phí thấp hơn so với sản phẩm của ASML.
Dự án của Nikolay Chkhalo hướng tới việc phát triển các máy quang khắc tia cực tím (EUV) với công nghệ riêng của Nga, khác biệt so với ASML. Thay vì sử dụng bước sóng 13,5 nm phổ biến, Nga chọn bước sóng 11,2 nm.
Theo ông Chkhalo, thuộc Viện Vật lý Cấu trúc Vi mô, Viện Hàn lâm Khoa học Nga, bước sóng 11,2 nm không chỉ cải thiện độ phân giải lên 20% mà còn giúp đơn giản hóa thiết kế quang học và giảm chi phí sản xuất. Những máy EUV mới sẽ dùng tia laser xenon thay vì công nghệ thiếc như của ASML.
Ngoài ra, dự án còn hướng đến việc giảm tình trạng nhiễm bẩn ở các bộ phận quang học, giúp kéo dài tuổi thọ các linh kiện quan trọng như bộ thu và màng bảo vệ (pellicles). Những cải tiến này không chỉ giảm chi phí mà còn hứa hẹn tạo ra các thiết bị quang khắc EUV hiệu quả hơn về chi phí.
Viện Vật lý Cấu trúc Vi mô, thuộc Viện Hàn lâm Khoa học Nga.
Kế hoạch phát triển máy quang khắc của Nga chia thành ba giai đoạn chính. Giai đoạn đầu là nghiên cứu và hoàn thiện các công nghệ cốt lõi, thử nghiệm linh kiện cần thiết. Sau đó, họ sẽ chế tạo nguyên mẫu máy quang khắc có khả năng xử lý 60 wafer 200 mm mỗi giờ. Cuối cùng, họ sẽ mở rộng quy mô sản xuất với hệ thống quang khắc hoàn chỉnh, có thể xử lý 60 wafer 300 mm mỗi giờ.
Tuy nhiên, những máy này không thể nhanh như hệ thống của ASML, chỉ đạt khoảng 37% công suất của ASML, với nguồn sáng 3,6 kW. Dù vậy, hiệu suất này vẫn đủ để phục vụ nhu cầu sản xuất quy mô nhỏ, nhưng chưa phù hợp cho sản xuất hàng loạt.
Việc chuyển sang bước sóng 11,2 nm đòi hỏi xây dựng một hệ sinh thái mới hoàn toàn, bao gồm các gương đặc biệt, lớp phủ, thiết kế mask và chất cản quang (photoresists). Ngoài ra, các công cụ phần mềm thiết kế chip cũng cần được cải tiến mạnh mẽ, đặc biệt trong việc chuẩn bị dữ liệu mask và hiệu chỉnh quang học.
Hiện tại, chưa có kế hoạch rõ ràng về thời gian cho từng giai đoạn phát triển. Các chuyên gia dự đoán rằng việc hoàn thiện một hệ sinh thái quang khắc đầy đủ có thể mất đến 10 năm hoặc lâu hơn. Đồng thời, cũng chưa có thông tin cụ thể về các tiến trình nanomet mà các công cụ mới này sẽ hỗ trợ.
