Nghiên cứu tiên tiến: Máy quang khắc mới từ Nga

Buzz

Đọc tóm tắt

- Nhà nghiên cứu ở Nga phát triển máy quang khắc cực tím sản xuất chip 7nm trong 6 năm tới, vượt trội hơn Twinscan NXT:2000i của ASML.
- Nga gặp khó khăn với sản xuất chip 28nm do không sử dụng công nghệ phương Tây, phải tự chế tạo thiết bị trong nước.
- IAP đặt mục tiêu tạo máy quang khắc 7nm trong 6 năm, thách thức ngang ngửa với ASML.
- ASML mất 14 năm để thu nhỏ tiến trình từ 65nm xuống 7nm, IAP đặt kế hoạch phát triển nhanh chóng và hiệu quả.
- IAP đặt kế hoạch xây dựng hệ thống quang khắc phiên bản alpha vào năm 2024, thu hút các nhà đầu tư.

Một nhà nghiên cứu ở Nga đang phát triển máy quang khắc cực tím có thể sản xuất chip 7nm trong vòng 6 năm tới. Hệ thống này dự kiến sẽ vượt trội hơn Twinscan NXT:2000i của ASML sau hơn 1 thập kỷ phát triển.Tình hình mới nhất về sản xuất chip của Nga: Thách thức và cơ hộiNga đang gặp khó khăn với kế hoạch sản xuất chip 28nm do không thể sử dụng công nghệ tiên tiến từ phương Tây, buộc phải tự chế tạo thiết bị trong nước. Đây là thách thức lớn khi quá trình này cần hoàn thành trong 8 năm.

Viện nghiên cứu vật lý ứng dụng ở Nga đặt mục tiêu tạo ra máy quang khắc sản xuất chip 7nm chỉ trong 6 năm. Đây là bước đột phá với hệ thống phức tạp và tiên tiến, thách thức ngang ngửa với ASML - nhà lãnh đạo thế giới về máy quang khắc.

IAP lạc quan về thời gian khi phát triển công nghệ quang khắc nhúng cho chip dưới 32nm. ASML mất hàng thập kỷ để hoàn thiện các dòng máy quang khắc, trong khi IAP đặt mục tiêu nhanh chóng và hiệu quả.

Vào năm 2018, sau hơn 9 năm, ASML công bố dòng máy quang khắc Twinscan NXT:2000i, có khả năng sản xuất chip 7nm và 5nm. Việc này thể hiện ASML mất 14 năm để thu nhỏ tiến trình từ 65nm xuống 7nm, khiến kế hoạch của IAP trở nên không khả thi.Nikolai Chkhalo, phó giám đốc Viện vật lý cấu trúc vi mô của IAP, lý giải rằng ASML đã phát triển hệ thống quang khắc EUV trong gần 20 năm với mục tiêu duy trì năng suất cực cao, tuy nhiên, ở Nga, ưu tiên là chất lượng và việc phát triển riêng biệt về công nghệ là không thể tránh khỏi.

IAP đặt kế hoạch xây dựng hệ thống quang khắc phiên bản alpha vào năm 2024. Dù không đạt năng suất cao hay độ phân giải tối đa, hệ thống này thu hút các nhà đầu tư. Phiên bản beta sẽ có năng suất và độ phân giải lớn hơn vào năm 2026, và đến năm 2028, hệ thống mới đạt được năng suất tối đa với nguồn ánh sáng hiệu suất cao và năng lực tổng thể tốt hơn.Cũng cần nhớ rằng hệ thống máy quang khắc không chỉ bao gồm một máy duy nhất mà nó còn bao gồm nhiều máy móc và trang thiết bị phụ trợ khác. Như các loại máy khắc, máy lọc, máy loại bỏ cặn, máy đo đạt, kiểm tra chất lượng... Tất cả những thiết bị này không được sản xuất tại Nga. Hơn nữa, các thiết bị đơn giản như máy tạo khí, máy tạo nước siêu tinh khiết cũng không được sản xuất tại Nga. Vì vậy, nếu IAP có thể sản xuất máy quang khắc, một nhà máy sản xuất bán dẫn ở Nga vẫn thiếu hàng trăm công cụ khác để vận hành. Ngoài vấn đề về công cụ, Nga cũng phải giải quyết vấn đề về vật liệu vì nhiều nguyên liệu thô siêu tinh khiết được sử dụng trong sản xuất bán dẫn lại đến từ các quốc gia không được phép cung cấp cho Nga.Tom's Hardware

Nội dung được phát triển bởi đội ngũ Mytour với mục đích chăm sóc khách hàng và chỉ dành cho khích lệ tinh thần trải nghiệm du lịch, chúng tôi không chịu trách nhiệm và không đưa ra lời khuyên cho mục đích khác.

Nếu bạn thấy bài viết này không phù hợp hoặc sai sót xin vui lòng liên hệ với chúng tôi qua email [email protected]

Các câu hỏi thường gặp

Máy quang khắc cực tím mà nhà nghiên cứu ở Nga đang phát triển có thể sản xuất chip 7nm trong bao lâu?

Máy quang khắc cực tím mà nhà nghiên cứu ở Nga đang phát triển dự kiến sẽ có khả năng sản xuất chip 7nm trong vòng 6 năm tới, vượt qua hệ thống Twinscan NXT:2000i của ASML.

Nga đang gặp phải những thách thức nào trong kế hoạch sản xuất chip 28nm?

Nga đang gặp khó khăn trong việc sản xuất chip 28nm vì không thể sử dụng công nghệ tiên tiến từ phương Tây, buộc phải tự chế tạo thiết bị trong nước, với thời gian hoàn thành dự kiến là 8 năm.

Viện nghiên cứu vật lý ứng dụng ở Nga dự định sẽ phát triển máy quang khắc với khả năng gì trong thời gian tới?

Viện nghiên cứu vật lý ứng dụng ở Nga dự định sẽ phát triển máy quang khắc có khả năng sản xuất chip 7nm trong vòng 6 năm, vượt qua các sản phẩm hiện tại của ASML.

IAP ở Nga có kế hoạch phát triển công nghệ quang khắc như thế nào?

IAP ở Nga đặt mục tiêu phát triển công nghệ quang khắc nhúng cho chip dưới 32nm, dự định sẽ hoàn thành hệ thống phiên bản alpha vào năm 2024 và phiên bản beta vào năm 2026.

Những vấn đề lớn mà Nga cần giải quyết khi phát triển máy quang khắc là gì?

Nga phải giải quyết nhiều vấn đề như thiếu công cụ phụ trợ sản xuất chip, chẳng hạn như máy khắc, máy lọc, máy đo đạt, và thiếu vật liệu siêu tinh khiết do các lệnh cấm từ các quốc gia khác.