Buzz
Apple dự kiến sẽ là khách hàng chủ chốt sử dụng công nghệ 2nm, có thể sẽ ứng dụng cho dòng iPhone 18 trong tương lai.
Dù tiến trình 2nm của TSMC chưa chính thức bước vào giai đoạn sản xuất hàng loạt, nhưng số lượng đơn hàng đã vượt xa kỳ vọng. Nguồn tin từ chuỗi cung ứng Đài Loan cho hay mức độ quan tâm với node này thậm chí còn lớn hơn cả tiến trình 3nm, sản phẩm chủ chốt hiện tại của TSMC. Một số chuyên gia trong ngành cho rằng đây là 'cơn sốt vàng' tiếp theo của ngành công nghiệp bán dẫn toàn cầu.
Điểm nổi bật khiến tiến trình N2 trở nên hấp dẫn là việc TSMC chuyển sang sử dụng cấu trúc bóng bán dẫn GAAFET (Gate-All-Around Field-Effect Transistor) với thiết kế nanosheet mới. So với công nghệ FinFET truyền thống, GAAFET giúp các nhà sản xuất linh hoạt hơn trong việc tối ưu hóa hiệu suất cao hoặc tiết kiệm điện. Đây là yếu tố quan trọng trong kỷ nguyên AI và các thiết bị di động siêu tiết kiệm năng lượng.
TSMC N2 được cho là sẽ cải thiện tốc độ xử lý khoảng 10 đến 15% so với tiến trình N3E, mang lại một bước tiến đáng kể khi hiệu suất đã gần đạt giới hạn vật lý. Quan trọng hơn, mật độ lỗi (defect density) của node 2nm hiện đã tương đương với 3nm và 5nm, cho thấy quá trình hoàn thiện kỹ thuật nhanh hơn dự kiến, mở ra cơ hội sản xuất hàng loạt vào cuối năm 2025.
Apple được cho là khách hàng lớn nhất sẽ áp dụng tiến trình 2nm, có thể dành cho iPhone 18. NVIDIA dự kiến sẽ sử dụng node này trong các GPU thế hệ tiếp theo mang tên Vera Rubin. AMD đã công bố sử dụng 2nm cho vi xử lý Zen 6 Venice, khẳng định cam kết dẫn đầu về hiệu năng trong lĩnh vực CPU.
TSMC dự kiến sẽ sản xuất khoảng 50.000 tấm wafer 2nm trong năm nay. Số lượng này có thể tăng gấp ba lần vào năm 2027 nhờ việc mở rộng cơ sở sản xuất tại Đài Loan. Nhà máy tại Arizona (Mỹ) dự kiến cũng sẽ bắt đầu sản xuất tiến trình 2nm vào năm 2028, giúp TSMC duy trì nguồn cung ổn định lâu dài.
Với một danh sách khách hàng nổi bật, bao gồm cả Apple, AMD và NVIDIA, TSMC có thể yên tâm về đầu ra. Thách thức duy nhất hiện nay là làm sao nâng cao năng lực sản xuất để đáp ứng nhu cầu cực kỳ cao đối với tiến trình 2nm.
Anh Việt
